中国科学出版社 离子液体工艺流程
水冰起着正性光刻抗蚀剂的作用，烷烃冰表现出类似负性抗蚀剂的能力
信用:中国科学出版社 纳米制造使得纳米技术和纳米科学成为可能
电子束平版印刷术(EBL)可以制作几纳米的图案，是纳米制造的基本支柱之一
在过去的十年中，基于电子束的纳米制造已经取得了显著的进展，例如新兴的冰光刻技术，其中冰薄膜被用作抗蚀剂并通过聚焦电子束形成图案
因为不需要EBL抗蚀剂通常需要的旋涂和化学显影步骤，所以离子液体纳米制造的整个过程是可持续的和流线型的
新论“用于三维纳米制造的冰光刻”
西湖大学的邱敏发表在《科学通报》上
在这篇综述中，作者介绍了冰光刻技术的现状和发展前景
还介绍了不同的抗冰剂和离子液体仪器的设计
特别强调了离子液体在三维纳米制造中的优势
离子液体技术最早是由哈佛大学的纳米孔小组在2005年提出的
水冰是第一个被确定为抗离子液体的抗冰剂，它仍然是迄今为止唯一的一种正性光刻抗蚀剂
如图1所示
1、在电子束曝光区域内水冰很容易去除
由简单的有机分子(如烷烃)凝聚而成的有机冰显示出类似负性抗蚀剂的能力，这意味着在将样品加热至室温后，只有暴露的图案保留在基底上
离子液体的研究还处于起步阶段，这种方法在高效的三维纳米制造中已经显示出巨大的优势
与EBL抗蚀剂的旋涂不同，冰抗蚀剂能够在冰沉积过程中覆盖样品的所有可接近的冷冻表面
因此，离子液体可以处理具有不平坦和不规则表面的样品，如在原子力显微镜探针上形成图案，并在微小和易碎的纳米结构上形成图案，如悬浮的单壁碳纳米管
得益于水冰非常低的灵敏度，离子液体允许通过扫描电镜成像原位观察防冰层下的纳米结构
该特征不仅提高了对准精度，而且简化了制造三维层状纳米结构的工艺步骤
由于尖端仪器的研发对推进离子液体技术至关重要，本文最后讨论了离子液体仪器的发展，并为专用离子液体仪器的建设提供了明确的指导
随着未来新的功能性抗冰剂的发现，更多前沿和交叉学科的研究有望开发离子液体的潜力
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