奈良科技学院 (1)宽的和(2)放大的硅金字塔图像
四个斜率对应于硅{111}面表面
信用:肯·服部哲 超小型集成电路已经彻底改变了手机、家用电器、汽车和其他日常技术
为了进一步使电子设备小型化并实现先进的功能，电路必须在三维空间中可靠地制造
通过蚀刻硅来实现超细三维形状控制是困难的，因为即使是原子级损伤也会降低器件性能
奈良科技学院(NAIST)的研究人员在《晶体生长与设计》杂志上发表了一项新的研究，他们在研究中蚀刻硅，使其采用原子级平滑的金字塔形状
在这些硅金字塔上覆盖一层薄薄的铁，可以赋予它们磁性，而这些磁性至今只是理论上的
NAIST研究员和研究的资深作者肯·服部哲在原子控制纳米技术领域广泛发表
服部哲研究的一个焦点是改善硅基技术的功能
“硅是现代电子产品的主力，因为它可以充当半导体或绝缘体，而且是一种丰富的元素
然而，未来的技术进步需要原子级平滑的三维器件制造，”服部哲说
标准干法蚀刻和化学蚀刻的结合是制造金字塔形硅纳米结构阵列所必需的
迄今为止，原子级光滑表面的制备一直极具挑战性
“我们有序排列的等腰硅金字塔都是同样大小，有平面
我们通过低能电子衍射模式和电子显微镜证实了这些发现，”研究的主要作者艾达·伊尔米基莫夫解释说
一层30纳米的超薄铁层被沉积在硅上，以赋予其不寻常的磁性
金字塔的原子级方向定义了方向，因此，覆盖铁的属性
从一个棱锥表面反映衍射图案的代表电子球和倒格子杆的示意图
信用:肯·服部哲 铁的外延生长使得纳米膜的形状各向异性成为可能
服部哲解释说:“磁化强度随磁场变化的曲线是矩形的，但其断点是由限制在金字塔顶端的磁涡流的不对称运动引起的。”
研究人员发现，在平面铁涂层硅上进行的类似实验中，该曲线没有断点
其他研究人员从理论上预测了金字塔形状的异常曲线，但是NAIST的研究人员第一个在真正的纳米结构中展示了它
“我们的技术将能够简单地通过调整基底的形状来制造圆形磁性阵列，”伊尔米基莫夫说
集成到自旋电子学等先进技术中，通过电子的自旋而不是电荷来编码信息，将大大加速三维电子的功能
来源：由phyica.com整理转载自PH，转载请保留出处和链接！
