作者:KU Leuven 薄膜的直接x光和电子束光刻
信用:KU Leuven 比利时库·鲁汶大学的研究人员开发了一种高分辨率光刻工艺来制作金属有机框架薄膜
这项发表在《自然材料》杂志上的工作将加速这些材料整合到微芯片中
金属有机框架是由有机分子和金属离子组成的分子海绵
KU鲁汶膜分离、吸附、催化和光谱学中心的罗布·阿梅洛特教授说:“这些材料在高科技小型化设备中有着光明的前景，如低功耗处理器、电阻存储器、传感器和柔性电子器件。”
“财政部和微电子界一直在努力将财政部集成到微芯片中，这需要两个关键的工程步骤:薄膜沉积和光刻构图
" 2016年，阿梅洛特教授的团队开发了化学气相沉积金属氧化物薄膜，这是一种与工业芯片制造兼容的方法
现在，该团队更进一步，实现了具有纳米分辨率的多晶薄膜的直接光刻
传统的光刻技术使用牺牲层，即所谓的光致抗蚀剂，将图案转移到期望的材料中
光致抗蚀剂的使用使工艺变得复杂，并且可能导致高度多孔的多孔膜的污染
财政部模式特写
信用:KU Leuven “我们的目标是消除光致抗蚀剂的使用，并且仍然具有高质量的多孔膜图案
该论文的第一作者，库·鲁汶大学博士后研究员闵图说
“我们的方法是基于选择性的x光或电子束曝光的金属氧化物薄膜，这引起化学变化，使其能够消除共同的溶剂
该工艺完全避免了抗蚀剂层，因此显著简化了图案化，同时保持了图案化的多孔膜的物理化学性质不变
此外，我们可以设计比以前更小的特征，而且我们的技术已经与现有的纳米制造工艺兼容
为了证明这种方法的一些能力，我们制作了一种对有机蒸汽有反应的光子传感器
我们是第一个实现这些高度多孔材料的直接高分辨率光刻的人
我们已经找到了一种令人兴奋的方法来在表面形成多孔材料的图案
现在，是时候将它们设计并实现为小型化设备了
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