犹他大学的金钟铉、申东云和张继荣 无花果
穿过印刷纤维的紫外电磁波可以到达目标光刻胶
学分:犹他大学 犹他大学的研究人员开发了一种基于印刷纤维的光调制系统，它结合了聚合物印刷和量子波动光学，提供了一种新的光刻平台
所提出的微制造方法的独特优势包括可重复使用的掩模的快速直接写入、极低的工艺成本和可扩展性，并且这些优势将提供可定位在并行的基于掩模的光刻工艺和串行的无掩模光刻工艺之间的小生境光刻解决方案
这项由犹他大学机械工程系助理教授张继勇领导的研究发表在《美国化学学会应用材料与界面》杂志上
光刻技术在学术研究、推进制造业以及半导体工业中发挥着至关重要的作用
然而，最先进的光刻方法仍然需要使用昂贵的工具和设备
此外，世界上缺乏工具和纳米抗体；可访问性和可用性低
因此，开发新的低成本无晶圆厂工艺光刻技术是可取的
作为工作的一部分，该团队结合了两个主要组成部分:光学双折射效应，通过该效应，入射紫外(UV)电磁场的相位在穿过光学各向异性介质时被调制，以及使用近场静电纺丝以可编程形式图案化的半结晶聚合物微纤维
通过在一维纤维中实现双折射效应，研究人员创造了可复制的掩模
当放置在两个相互垂直的线性偏振器之间时，只有通过光纤的紫外光能到达光敏电阻
“光学双折射效应可以改变光的结构
虽然双折射已经被应用于主要存在于二维空间的应用，如液晶显示器和偏振仪，但我们正在通过纤维选择性曝光系统重振这一光学现象
金钟铉，阿尔贡国家实验室应用材料部博士后研究员
研究人员成功展示了光刻的关键特征，包括直线、曲线、阵列以及使用一维光纤的0-2维隔离，以及没有对准标记的多重对准
整个过程，包括纤维生成、可重复的紫外线曝光和校准，都是在桌面规模的系统中进行的，不需要洁净室设施
研究人员现在正在将系统开发成纳米级图案
“我们相信这项技术将满足对可靠、可扩展和负担得起的光刻方法的需求，”金说
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