中国科学院李源
铂/钛岛上的局部HER电流受表面电荷密度的严格线性调节
信用:聂伟和范冯涛 表面电荷在光电化学催化反应中起着重要作用
然而，电极/电解质界面处电荷转移位点和催化位点的空间不均匀性掩盖了表面反应过程
最近，一个由教授领导的研究小组
李灿和教授
中国科学院大连化学物理研究所的范和他们的合作者揭示了光电催化中表面电荷密度和反应电流之间的线性规律
这项研究发表在11月11日的《物理化学快报》杂志上
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研究人员使用p-Si光电极上的铂/钛阵列上的操作空间分辨光电压显微术量化了析氢反应的局部催化电流和表面电荷密度之间的关系
他们发现，通过同时调节偏置电位和铂/钛岛的间距，局部的氦-氖电流可以由反应位点的电荷密度线性调节
“与外加电压改变激活自由能的电催化过程不同，光电极上外加电势的唯一性被发现决定了光生少数的电荷密度，从而决定了反应电流，”教授说
风扇
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